广泛应用于材料科学、纳米技术、半导体电子行业、生命科学等领域的材料结构观察和分析。可在明场、暗场、荧光条件下观察样品，并拍摄高质量图片。对于不能一次成像的较大样品，可以选择拼图来实现全样品的成像。最大放大倍率为1000倍。

1．电动载物台：≥78 X 54 mm，精度0.1 μm；调焦：精度0.025 μm；目镜：带屈光度调节的10倍目镜，FOV≥25。2．明暗场物镜：5X明暗场物镜：N.A.≥ 0.15, W.D.≥ 18 mm；3．10X明暗场物镜： N.A.≥ 0.30, W.D.≥ 15 mm；20X明暗场物镜： N.A.≥ 0.45, W.D.≥ 4.5mm；50X长工作距离明暗场物镜： N.A.≥ 0.60, W.D.≥ 11 mm；100X长工作距离明暗场物镜： N.A.≥ 0.80, W.D.≥ 4.5mm。4．成像系统：高灵敏度EMCCD相机；分辨率：≥1024 x 1024 pixels；像素尺寸：≥13μm x 13μm；芯片大小：≥13.3 x13.3 mm；量子效率：≥95%；速度： 26 fps（670 fps with 128 x 128 Crop Mode）。