磁控溅射沉积系统

仪器信息

  • 型号/规格:SVAC-FilmLab-T400S3
  • 购置时间:2022/4/1 4:04:00
  • 生产厂家:浙江赛威科光电科技有限公司
  • 所属单位:浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)
  • 联系人:戈佳艳/周秋萍
  • 电话:18260930177/13586406256
  • 邮箱:jiayange@intl.zju.edu.cn/ qiupingzhou@intl.zju.edu.cn
  • 放置地点:浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)

主要功能介绍

各种金属薄膜溅射沉积

各种金属、非金属化合物薄膜溅射沉积

主要技术指标

1.腔体漏率:小于1.0*10-10Pa.m3/s;

2.分子泵:对氮气抽速大于600L/s;

3.机械泵:抽速6L/s;

4.极限真空:小于6.7EE-5Pa;

5.恢复真空速度:用氮气破空,从大气至6.7E-4Pa时间小于40分钟;

6.采用10V200A的稳流电源,电流调节精度0.1A,最大电流200A,最大电压10V DC;

7.最高加热温度:650度,温度控制精度±0.3度;

8.可装载最大6英寸样品(样品盘直径150mm,方片尺寸100*100mm);

9. 样品台旋转:转速0-25rpm连续可调;

10.靶材尺寸:3英寸;

11.带离子清洗功能。