磁控溅射沉积系统

仪器信息

  • 型号/规格:SVAC-FilmLab-T400S3
  • 购置时间:2022/3/1 4:03:00
  • 生产厂家:浙江赛威科光电科技有限公司
  • 所属单位:浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)
  • 联系人:戈佳艳/周秋萍
  • 电话:18260930177/13586406256
  • 邮箱:jiayange@intl.zju.edu.cn/ qiupingzhou@intl.zju.edu.cn
  • 放置地点:浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)

主要功能介绍

各种金属薄膜溅射沉积

各种金属、非金属化合物薄膜溅射沉积

主要技术指标

1.溅射室极限真空度:6.7*10-5Pa;

2.系统漏率:1*10-7Pa.L/s;

3.溅射室烘烤照明:采用红外加热除气方式,烘烤温度:150℃;

4.样品台:可加热旋转,最大4英寸样品,样品台最高的加热温度为500℃,程序控温;

5.样品实现自转,转速为:0-50r/min;

6.靶材尺寸:2英寸。