反应离子刻蚀机
仪器信息
- 型号/规格：PlasmaPro 80
- 购置时间：2022/7/1 4:07:00
- 生产厂家：牛津仪器科技（上海）有限公司Oxford
- 所属单位：浙江大学国际联合学院（海宁国际校区）
- 联系人：戈佳艳/周秋萍
- 电话：18260930177/13586406256
- 邮箱：jiayange@intl.zju.edu.cn/ qiupingzhou@intl.zju.edu.cn
- 放置地点：浙江大学国际联合学院（海宁国际校区）
主要功能介绍
主要技术指标
1、对于SiO2 的刻蚀速率：40nm/min；
2、片间均匀性：0.53% ；
3、刻蚀选择比：光刻胶=3.2:1；
4、刻蚀侧壁倾角：75.65°；
5、对于SiNx 的刻蚀速率：88nm/min；
6、片间均匀性：0.49% ；
7、刻蚀选择比：光刻胶=1.8:1；
8、刻蚀侧壁倾角：73.01°。