双束聚焦离子刻蚀系统

仪器信息

  • 型号/规格:ZEISS Crossbeam350
  • 购置时间:2020/12/4 4:12:00
  • 生产厂家:赛尔网络有限公司
  • 所属单位:浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)
  • 联系人:潘宁武
  • 电话:87572227
  • 邮箱:ningwupan@intl.zju.edu.cn
  • 放置地点: 浙江省海宁市海州东路718号浙江大学国际联合学院(海宁国际校区)

主要功能介绍

原位失效分析,定点投射样品制备,三维重构等方面

主要技术指标

一、 离子束

1. 分辨率:≤3.0nm@30kV;

2. 离子镜筒:Ion-sculpture镜筒;

3. 放大倍率范围不小于:300x~500kx;

4. 束流强度范围不小于:1pA-65nA;

5. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV;

二、 电子束

1. 分辨率:≤0.9nm@15KV;≤1.8nm@1kV;

2. 最大束流不低于20nA;

3. 放大倍率范围不小于:20x-2000kx;

4. 加速电压范围不小于:0.5kV-30kV;

三、 样品室及马达台系统

1. 样品室内部尺寸不小于330mm(宽)?330mm(深)?270mm(高);

2. 六轴高精度超优中心全自动马达样品台:样品台XY方向移动范围不低于100mm,Z方向移动范围不低于10mm,倾斜角度T范围不小于-4°到60°,旋转角度R=360°;

3. 样品预交换室:可放置样品最大尺寸不小于80mm;

四、 电子束曝光

1. 设备连接后,保证可实现将电镜切换成外部扫描模式;

2. 通过图形发生器设定写场,同时扫描图像后保证图像水平和垂直方向正确;

3. 通过图形发生器实现控制束闸的开关;

4. 通过图形发生器实现扫描电镜和其工作台的远程控制;

5. 使用标样对写场进行校准;