是用于扫描电镜非导电样品非常理想的镀膜设备。经济紧凑型设计非常容易操作，提供了快速抽真空时间，精密镀膜设计和对样品无热损伤优势。安全的互锁技术提供了全方位可灵活设定不会受真空压力影响的溅射电流。通过一个高效低压磁控管进行冷态溅射，精密喷镀。

样品仓尺寸： 120mm x 120mm (4.75 x 4.75")，高强度硼硅酸盐钢化玻璃结构样品台：直径为 63mm，可放置 12 个标准 SEM 样品座，可调高度为 60mm可放置最大样品直径为：110mm最佳工作距离为：40mm溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，最大180A，配有过流保护靶材可选：金，铂，金/钯，铂/钯, 银, 铜, 镍, 铁等靶材尺寸：57mm 直径，优于 99.99%纯度溅射速率：优于 2.3nm/s (金靶）（随工作条件不同而差异）溅射控制：程序化数字控制，专利恒流设计溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩真空泵：附带减震垫的桌面式真空泵设计, 4 m3 每小时抽速(70 升每分钟)，10-3mbar 极限真空度；KF16 连接装置真空 Ready 时间： 小于 20 秒模拟计量：真空 Atm - 0.001mb控制方式：自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器，自动放气电源：200-240 VAC, 50/60Hz