感应耦合等离子体刻蚀设备

仪器信息

  • 型号/规格:ICP-801
  • 购置时间:2021/3/17 4:03:00
  • 生产厂家:创世威纳
  • 所属单位:海宁先进半导体与智能技术研究院
  • 联系人:苏越
  • 电话:18844189578
  • 邮箱:yuesu@semi.ac.cn
  • 放置地点:鹃湖园区半导体工艺中心

主要功能介绍

利用射频天线,通过感应耦合方式产生等离子体,在射频偏压的作用下,等离子体对被刻蚀材料表面进行物理轰击并发生化学反应,达到对样品刻蚀的目的。

主要技术指标

样品8英寸;

刻蚀速率0.1~4um/min;

调节精度1mm